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数据存储:化学机械抛光 (CMP)

化学机械抛光 (CMP)是对玻璃和铝基片的表面进行抛光。 确保基片表面的超级平整与光洁度以防止磁头划碰损伤磁盘表面非常重要。否则磁头的高速旋转将导致磁头严重划碰损伤,产生不平坦光滑的磁盘表面。

在磁盘化学机械抛光系统中过滤器通常有两个应用点:a) 抛光液循环过滤。b) 抛光液进入抛光机之前(POU)单次通过的囊式过滤器。  由于抛光液的平均颗粒尺寸已经下降至 200 纳米左右,因此现对这一应用过滤器的过滤精度要求必须达到 100 纳米以下。

颇尔公司可提供多种膜材质和各种结构的滤芯为抛光液供应系统和 POU 应用过滤。从而使基片/磁盘表面达到超平坦、超光滑的要求。

化学机械抛光(CMP)用过滤器
 

过滤器

Nexis A 系列过滤器
Nexis A 系列滤芯在高压差情况下,不会对截流的污染物有卸载产生。

 
  数据存储概述显示器 - 应用
数据存储 - 铝基片的预电镀
数据存储 - 铝基片的化学镀镍
数据存储 - 化学机械抛光 (CMP)
数据存储 - 基片/磁盘清洗
数据存储 - 润滑涂层查找颇尔代表以解答订购问题
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 Profile II 过滤器
 Profile II 过滤器有效去除氧化物、钨及铜 CMP 料浆中的凝聚颗粒和凝胶体,同时不影响料浆颗粒分布。


Profile Star 过滤器
Profile Star 过滤器打褶式全聚丙烯深层过滤器,非常适合用于从对氧化物、钨和铜实施化学机械抛光时的所用料浆中去除凝聚颗粒和凝胶体。

Poly-Fine XLD 系列过滤器
Poly-Fine XLD 系列过滤器深层和打褶技术的创新结合,高流速、低压降。




Ultipor GF-HV 过滤器
Ultipor GF-HV 过滤器Ultipor GF-HV 过滤器适用于具有高粘度和易团聚的回态柔性颗粒的抛光液过滤。