晶体硅电池制造

循环槽的化学过滤

在清洗和蚀刻过程中,利用颇尔过滤器可减少微粒对晶片表面的污染。

颇尔过滤器保护关键开孔( 清洗喷嘴),避免开孔因阻塞导致故障。

采用循环流体时,如果在线安装一套过滤装置,则可最大限度地提高回收价值。 化学槽的寿命也会通过过滤得到延长。化学槽清洁度提高还可改善晶片表面的质量。
 
颇尔可为化学品、气体和水应用提供多种合适的过滤产选择。

过滤器推荐

切割损伤刻蚀和制绒

  • Profile A/S 过滤器
    • 为高温和/或高度污染的腐蚀性化学品提供经济高效的解决方案,因此成为碱性制绒的理想选择。
磷扩散、氧化蚀刻和边缘分离

  • Claris 系列过滤器
    • 全聚丙烯材质
    • 分级式多孔结构,可延长使用寿命
    • 无需表面活性剂、粘合剂或添加剂
  • Nexis T 系列过滤器
    • 类似于 Claris 过滤器
    • 可耐受高温和不均匀压力
  • Profile II 过滤器
    • 全聚丙烯材质
    • 具有高孔隙度,可延长使用寿命
    • 无需表面活性剂、粘合剂或添加剂
滤壳推荐

Megaplast 滤壳

    • 可提供聚丙烯、PVDF 和 PFA 材质
    • 10 英寸和 20 英寸两种规格供选择
    • 可提供配管连接
 

光伏概述
光伏 - 应用
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光伏 - 晶体生长
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抗反射涂层的过滤

用于形成抗反射涂层或非晶硅薄膜的氢气和硅烷气体中所含的分子污染可能会导致多种工艺问题,例如涂层不均匀以及由于颗粒生成而产生的其他类型缺陷。

Gaskleen II 纯化器可将氢气和硅烷气体中的水分含量减少至 1 ppb 以下。 同时有效去除硅氧烷以及硅烷中所包含的砷、磷、铝和硼等杂质元素含量。

请阅读相关应用范例:“去除硅外延工艺中硅烷气体所含的硅氧烷杂质” (PDF)

经济高效的气体过滤

Gaskleen light 系列过滤器旨在为光伏市场提供先进的气体过滤,同时降低成本。