铝基片的化学镀镍

铝基片的化学镀镍是硬盘生产的关键一步。

镍层镀在铝基片表面的主要作用是增加铝基片的硬度并提高其耐腐蚀性。为防止磁头在读写过程中的划碰而损坏磁盘表面,必须对铝基片进行退火使其硬化。

随着硬盘磁介质密度的不断增加和磁头飞行高度的不断降低,铝基片镀层表面几乎不允许存在任何类型的污染物。 过滤器对消除铝基片在化学镀镍过程中可能产生的各种常见缺陷(镀层微凹点与夹杂物)非常关健。

颇尔公司可提供用于硬盘生产过程中所需的高精度、低压差和最少溶出物多种材质的膜滤芯。

铝基片镍电镀用过滤器
 

过滤器

Fluorodyne VA 和 FluorodyneFluorodyne TF 过滤器
Fluorodyne VA 和 Fluorodyne TF 过滤器专门设计用于铝基片化学镀镍快速循环过滤。


UltiKleen - CDS 过滤器
UltiKleen - CDS 过滤器颇尔的标准全氟滤芯,主要为半导体行业化学品供应系统的过滤而设计生产,当前也广泛用于硬盘铝基片的化学镀镍槽快速循环过滤。

Ultipleat HP 过滤器
Ultipleat HP 过滤器特别设计的Ultipleat HP 过滤器专门用于硬盘铝基片化学镀镍快速循环过滤。
  数据存储概述显示器 - 应用
数据存储 - 铝基片的预电镀
数据存储 - 铝基片的化学镀镍
数据存储 - 化学机械抛光 (CMP)
数据存储 - 基片/磁盘清洗
数据存储 - 润滑涂层
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