燃气过滤

Finer linewidths and increasingly complex processes continue to present new challenges for today’s semiconductor manufacturers.过去不会造成严重问题的杂质,现在可能会造成晶片缺陷、影响工艺品质并降低产量。分子杂质,又称为气体或挥发性杂质,最近已引起更广泛的关注,被认作是造成缺陷的原因。常见的分子杂质包括水分、氧气、二氧化碳、一氧化碳、碳氢化合物和金属羰基化合物。这些杂质无法通过颗粒过滤去除;它们需要一个用于去除杂质的材料反应床。从气流中去除分子杂质的过程被称为气体纯化。

Analytical Methodology for Evaluating Purifiers Containing a Novel Purification Medium for Hydrogen Chloride Gas


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Gas Purification Introduction    

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