微电子

半导体生产的气体纯化

更细的线宽和日益复杂工艺,不断向当今的半导体制造商提出新的挑战。

过去不会造成严重问题的杂质,现在可能会造成晶片缺陷、影响工艺品质并降低产量。

分子杂质,又称为气体或挥发性杂质,最近已引起更广泛的关注,被认作是造成缺陷的原因。常见的分子杂质包括水分、氧气、二氧化碳、一氧化碳、碳氢化合物和金属羰基化合物。

这些杂质无法通过颗粒过滤去除;它们需要一个用于去除杂质的材料反应床。从气流中去除分子杂质的过程被称为气体纯化。(这不同于过滤,过滤是去滤悬浮颗粒和气溶胶)。

我们的技术

AresKleen 技术
AresKleen 产品是一种对杂质反应性很强的完全无机的介质。该技术为惰性气体、稀有气体、非活性气体、氢化物、全氟化碳和腐蚀性气体提供亚 ppb 级的性能。

我们的纯化器具有以下功能和优势:

  • 室温下操作,无需额外的热源。
 

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半导体生产的气体净化应用资料
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  • 小型均匀基质,出色的反应床装填,可实现纯化器的垂直或水平安装。
  • 集成颗粒过滤器,使纯化器可用作in-line过滤器的替代改进,而无需对设备进行改造。
  • 可纯化各种特定气体介质
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