微电子

多晶硅纯化和加工

多晶硅 (PS) 生产工艺始于将石英或沙提炼为冶金级硅,然后在一系列的化学反应中将其纯化。

接着,在 Müller Rochow 工艺期间,在较高的温度并应用催化剂的情况下使纯化冶金级硅与氯化氢反应,以生产三氯甲硅烷 (TCS)。

将 TCS 气体冷却和液化。然后使用蒸馏去除沸点比 TCS 液体更高或更低的杂质。现在,提纯的 TCS 可以在反应器中用于制备 PS。

将 TCS 液体汽化,与氢气混合,然后在化学气相沉积 (CVD) 炉中参加还原反应形成 PS 棒;或在流化床反应器 (FBR) 中参加还原反应生成 PS 颗粒。

随后将在此工艺中释放的废气冷却、液化和蒸馏,即可生成可以被回收的关联产品四氯化硅 (STC) 和 TCS。

氢气回收是 PS 生产中的一项重要单元操作。在还原反应中产生、由氢气和氯硅烷组成的废气将被回收。

氢气在经过一个清洁工艺后,通过一个连续的回收回路循环至还原设备。

颇尔过滤产品的应用

 

光伏概述
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  • 将被通入反应器的进料气体过滤至亚微米级,以保护重要的控制阀和保持反应器内的纯度。反应器排气应用采用可清洗的PSS金属过滤器来回收宝贵固体颗粒,同时还可采用反吹技术。从排气流回收产品可以提高工艺产量、降低污染控制系统负载和保护下游设备免受 PS 累积。高容量的过滤系统允许实现完整的生产活动。
  • 当使用循环氢压缩机时,采用颇尔金属过滤器和膜滤芯的过滤不但可以保护压缩机免受 PS 沉积,而且还可降低昂贵的维修成本和相关工艺停机。
  • 水洗之后的腐蚀槽可用来通过溶解 PS 颗粒清洗金属滤芯。这些清洗槽采用 Profile® IIProfile UP 过滤器过滤,以恢复 PS 和防止其受到废液的污染。
  • 根据需要的最终产品,可能会采用氢氟酸和/或硝酸对最终的锭、棒或颗粒实施蚀刻步骤。这些蚀刻槽以及下游水冲洗将采用 Emflon PF 滤芯被过滤至亚微米级。
  • 颇尔可以为不同级别的水提供过滤产品和系统,包括超纯水和清洗水以及可能需要去除或回收 PS 粉末的废水。
用于高温气体过滤的陶瓷滤芯
用于高温气体过滤的陶瓷滤芯
  面向重要化学过滤的Emflon PF 过滤器
用于重要化学品过滤的Emflon PF 过滤器
  面向 TCS 粗滤的Rigimesh过滤器
用于 TCS 粗滤的Rigimesh过滤器