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数据存储:基片与磁盘清洗

 为防止基片和磁盘免受颗粒和污染物的影响,尤其是在磁头生产中釆用全新技术 PMR(垂直磁记录)和 HAMR(热辅助磁记录)和 BPM(位元型磁盘),对硬盘进行清洗处理非常必要。

清洗主要包括对基片抛光后清洗、磁盘的预喷淋清洗和磁盘的最终喷淋清洗。典型的清洗系统会涉及到下面三个系统之一: 循环清洗或单次通过清洗系统、高速喷淋或快速冲淋清洗或机械洗刷系统。

清洗系统通常设有一个或多个清洗阶段,包含常温或热去离子水清洗以及加碱性洗涤剂或不加碱性洗涤剂清洗。安装过滤器对于去除清洗槽颗粒污染物十分必要。

随着未来磁头的滑行高度将接近 5 nm 水平,对过滤的要求会趆来趆高,未来的过滤器必须具有低压差、无溶出物和对小于 50 nm 的污染物颗粒实现全去除等特性。

  数据存储概述显示器 - 应用
数据存储 - 铝基片的预电镀
数据存储 - 铝基片的化学镀镍
数据存储 - 化学机械抛光 (CMP)
数据存储 - 基片/磁盘清洗
数据存储 - 润滑涂层查找颇尔代表以解答订购问题
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颇尔是过滤技术领域的领导者,可为用户提供 30-100 纳米范围内多种过滤产品,能充分满足客户对基片和磁盘清洗工艺所需各种过滤器的高要求。

基片与磁盘清洗用过滤器及纯化器
 

过滤器

Emflon 过滤器(化学过滤)
Emflon 过滤器(化学品过滤)用于化学品过滤。膜:聚四氟乙烯,其它材质:聚丙烯


P Emflon® 过滤器 (光刻)
P Emflon 过滤器(微光刻)大流量过滤器特别适用于光刻胶及化学品过滤。膜:PTFE ,其它材质:高密度聚乙烯 (HDPE)


Fluoryte 高流量过滤器
Fluoryte 高流量过滤器全氟过滤器,过滤膜为最新高渗透性 PTFE 材料。


Ultipleat PC 过滤器
Ultipleat PC 过滤器零部件清洗应用。具有流量大、过滤精度细(0.2 微米)等优点。





净油机

IonKleen AN 纯化器
IonKleen AN 纯化器设计用于去除有机溶剂的负离子以及有机溶剂和树脂混合物中的负离子。


IonKleen SL 纯化器
IonKleen SL 纯化器有效去除有机溶剂中的金属离子以及有机溶剂和树脂混合物中的金属离子。