超纯水

General Filter Requirements
Achieving and maintaining ultrapure  water (UPW) is extremely important in light of its widespread presence throughout the manufacture of semiconductor integrated circuits.行业技术在过去几年中取得非常快速的发展,并已重新定义了对清洁的要求,尤其是与需定量去除硅胶、颗粒、总有机碳 (TOC)、细菌、热源(细菌碎片)和金属离子相关的清洁。

由于每个关键领域中所选择的过滤器类型将对最终过滤质量产生显著影响,精心设计的超纯水 (UPW) 系统中将过滤器的位置进行巧妙安排,可确保达到这一目标。为满足高纯去离子 (DI) 水系统的要求,过滤器必须:

  • Not contribute organic, particulate or metal ion contamination to the effluent stream
  • Not unload trapped contaminants or shed filter material
  • Be integrity testable to verify removal ratings
  • Perform identically from lot to lot
  • 低压降、较长的使用寿命和最大限度的降低成本

DI Water Filter
精心维护的 UPW 系统中拥有大量悉心选择的过滤器和净化器,并巧妙的安置在适合的位置。以下描画了一张去离子水系统的原理图。这些是一般水系统中过滤器的位置。
Ultrapure Water Introduction 

查看产品
Semiconductor-Ultrapure Water Products