半导体生产中的超纯水过滤

超纯水过滤/
纯化要求

由于超纯水在半导体集成电路制造中被广泛应用,因此超纯水的实现及维持极其重要。

行业技术在过去几年中取得非常快速的发展,并已重新定义了对清洁的要求,尤其是与需定量去除硅胶、颗粒、总有机碳 (TOC)、细菌、热源(细菌碎片)和金属离子相关的清洁。

由于每个关键领域中所选择的过滤器类型将对最终过滤质量产生显著影响,精心设计的超纯水 (UPW) 系统中将过滤器的位置进行巧妙安排,可确保达到这一目标。

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